在LCD、TFT、CF、Touch Panel造作中 ，光罩（也称Mask）用于批量转移电路设计图形到芯片上 ，承载了图形设计和工艺技术等关键信息 ，光罩上的图形谬误、颗；鄣热钡愠鞘杏跋熳钪詹返牧悸式档 ，进而影响产品机能和靠得住性。
维普STORM 2000SL系列大尺寸光罩检测设备 ，可利用于LCD、TFT、CF、Touch Panel、OLED、PDP等平板显示行业的Mask造作及基板造作过程。
STORM 2000SLV
STORM 2000SLV是维普针对于大尺寸Mask 基板开发的缺点检测设备 ，合用于抛光板、铬板、均胶板中颗粒、针孔、脏污的检测。选取先进的光学系统 ，通过一次扫描可实现颗粒、针孔的鉴别检测。针对Mask Blank基板厂商 ，具备高精度、高效能、易使用等沉大优势。
利用场景
为G8.5及以下尺寸的Mask基板 ，提供高效的表表缺点检测规划。
关键个性
- 可兼容RSP200、Nikon Case、水晶盒的开盒与自动高低板
- 基于明场+暗场的检测方式
- pellicle面、glass面、膜框内表部检测区域可矫捷设置
- 缺点地位与图形地位关系可视化展示
- 配置气浴风刀 ，可对表表颗粒进行断根
STORM 2000SLH
STORM 2000SLH是维普针对于大尺寸Mask开发的缺点检测设备 ，合用于LCD、TFT、CF、Touch Panel等大尺寸Mask光刻后的图形缺点检测。选取先进的光学成像与软件系统 ，可支持DB、DD、SL等检测模式 ，针对大尺寸Mask shop客户 ，具备高精度、高效能、易使用等沉大优势。
利用场景
为G8.5及以下尺寸的Mask ，提供高效的表表缺点检测规划 ，满足0.5um的缺点检测能力。
关键个性
- 最大支持8.5代面板尺寸
- 支持Loader自动高低片 ，支持与AGV对接
- 自适应支持多种规格的基板尺寸
- 支持DD、DB、SL检测模式
- 支持双光学头扫描 ，极大提高检测效能
