技术特点
- 职能：大面积方形玻璃衬底的高保真复造
- 用处：新型显示、衍射光学元件（光波导/光栅/微透镜阵列），其他微纳结构
机能参数
- 卷对平压印，柔性通明模具；自动脱模：速度/力度软件设置，子模自动一键更新
- 衬底尺寸：500*500mm（方形玻璃）或更幼尺寸
- 残留层：<20nm@结构领域50nm-2μm，均匀性优于±5% @500mm领域
- 压印平台：多通路微孔吸附托盘（真空区域独立设置），托盘控温（可达100℃，均匀杜着于±4%；自动冷却系统-可。
- 线光源：365nm LED，光功率密度2000mW/cm?，光功率均匀性优于90%
- 套准职能（可。篨-Y-θ-Z平台+高精度CCD光学视觉鉴别
- 上胶模式：图形化上胶（兼容子模具造作）
- 净化等级：内部环境Class10（表部环境要求Class100）；环境温度：15-25℃，湿度≤70%
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